Visão geral do produto
O Nano 3D Lithography System são plataformas avançadas de micro-estereolitografia (PμSL) baseadas em projeção projetadas para fabricação aditiva em micro- e nano{4}}escala.
Aproveitando sistemas ópticos de{0}}grau de litografia e tecnologia de gravação direta-sem máscara, a série Ploceus alcança resolução-líder do setor até1 μm, permitindo a fabricação de microestruturas complexas de alta-proporção-de aspecto, dispositivos multi-materiais e componentes cerâmicos com precisão dimensional excepcional.
A série inclui vários níveis de precisão para atender a diversos requisitos industriais e de pesquisa:
LSS-20– Precisão padrão (20 μm)
LSS-10 /– Alta precisão (10 μm)
LSS-05– Microprecisão avançada (5 μm)
LSS-02– Ultra precisão (2 μm)
LSS-01-DL/LSS-01-TL– Sistemas-de alinhamento de múltiplas lentes (até 1 μm)
Com opções de configuração modular, alternância de-resoluções múltiplas e capacidade de alinhamento visual, a série Ploceus suporta prototipagem rápida e microfabricação de alta-precisão.
Vantagens
① Precisão de litografia ultra-alta
Resolução de20 μm até 1 μm
Tolerância dimensional tão baixa quanto ±3 μm
Fabricação de estrutura de alta proporção
② Troca de-resolução múltipla
Troca rápida entre 1 μm / 2 μm / 5 μm / 10 μm / 20 μm
Uma plataforma para diferentes requisitos de precisão
③ Compatibilidade com vários-materiais
Resina
Resina biocompatível
Hidrogel (por exemplo, GelMA)
Pasta cerâmica de alumina
Resina de engenharia-para altas temperaturas
④ Alinhamento visual e processamento WYSIWYG
Monitoramento óptico-em tempo real
Nivelamento e foco automáticos
Alinhamento heterogêneo de vários-materiais
Precisão de alinhamento de sobreposição de até 2,5 μm
⑤ Impressão em-alta velocidade
5–50× mais rápido que as ferramentas tradicionais de microfabricação
Adequado para prototipagem e produção de pesquisa em lote
⑥ Sistema de cuba modular e flexível
Mini cuba (15 ml) para desenvolvimento de material
Cuba grande para produção em volume
Módulo de impressão-de alta temperatura
Sistema automático de eliminação-de bolhas
Aplicações
Ciências Biomédicas e da Vida
· Chips microfluídicos
· Plataformas organoides-em-um-chip
· Matrizes de microagulhas (sólidas e ocas)
· Andaimes de engenharia de tecidos
· Sistemas de entrega de medicamentos
· Moldes mestres PDMS
Materiais Avançados e Metamateriais
Estruturas treliçadas de cerâmica
Metamateriais gradientes
Superfície mínima triplamente periódica (TPMS)
Metamateriais mecânicos
Andaimes cerâmicos porosos
Dispositivos micro-mecânicos e funcionais
· Microengrenagens
· Microconectores
· Metasuperfícies ópticas
· Micro-fontes
· Microestruturas funcionais
Parâmetros
|
Modelo |
Precisão da Litografia |
Espessura mínima da camada |
Tolerância de impressão |
Tamanho máximo de impressão |
Sistema de lentes |
|
LSS-20 |
20 μm |
5 μm |
±50 μm |
38×21×50mm |
Lente única |
|
LSS-10 |
10 μm |
5 μm |
±20–25 μm |
50×50×50mm |
Lente única |
|
LSS-05 |
5 μm |
3 μm |
±10 μm |
50×50×50mm |
Lente única |
|
LSS-02 |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50mm |
Lente dupla |
|
LSS-01-DL |
2 μm |
3 μm |
±5 μm |
50×50×50mm |
Lente dupla (alinhamento) |
|
LSS-01-TL |
1 μm |
3 μm |
±3 μm |
50×50×50mm |
Lente tripla (alinhamento) |
Perguntas frequentes
P: 1. Que tecnologia este sistema usa?
R: O sistema é baseado em micro{0}}estereolitografia de projeção (PμSL) e tecnologia de litografia de gravação direta-sem máscara, permitindo fabricação 3D em escala micro/nano-de alta-precisão.
P: 2. Qual é a resolução mais alta disponível?
R: Dependendo do modelo, a precisão da litografia varia de:
20 μm
10 μm
5 μm
2 μm
até 1 μm (PL-3D-PT)
P: 3. Quais materiais são suportados?
R: O sistema suporta uma ampla variedade de materiais, incluindo:
Resinas funcionais
Resinas biocompatíveis
Resinas de engenharia-de alta temperatura
Hidrogel (por exemplo, GelMA)
Pasta cerâmica de alumina
A compatibilidade de materiais personalizados está disponível mediante solicitação.
P: 4. Ele pode imprimir estruturas cerâmicas?
R: Sim. Os modelos selecionados suportam impressão de pasta cerâmica, permitindo a fabricação de andaimes cerâmicos porosos, estruturas treliçadas e metamateriais.
P: 5. O sistema suporta impressão de vários-materiais?
R: Sim. Modelos avançados (PL-3D-PD / PL-3D-PT) suportam impressão de alinhamento heterogêneo de vários materiais com precisão de alinhamento de sobreposição de até 2,5 μm.
P: 6. Quais formatos de arquivo são suportados?
R: O sistema suporta o formato STL para entrada de modelo 3D.
P: 7. Qual é o tamanho máximo de impressão?
R: Dependendo do modelo, o tamanho de impressão suportado pode chegar até:
50 mm × 50 mm × 50 mm
Configurações personalizadas de cuba estão disponíveis.
P: 8. Para quais indústrias este sistema é adequado?
R: As aplicações típicas incluem:
Fabricação de chips microfluídicos
Matrizes de microagulhas
Andaimes de engenharia de tecidos
Metamateriais
Metasuperfícies
Dispositivos micro-mecânicos
É amplamente utilizado em pesquisas biomédicas, materiais avançados e campos de microfabricação.
P: 9. Quais são os requisitos de instalação?
R: Temperatura: 20–40 graus
Umidade: UR <60%
Ambiente de laboratório padrão
Nenhuma sala limpa é necessária para a operação básica (dependendo das necessidades da aplicação).
P: 10. Como ela se compara às impressoras 3D SLA ou DLP convencionais?
R: O sistema Ploceus oferece:
Precisão óptica-de nível litográfico
Resolução de nível-mícron (1–5 μm)
Maior estabilidade dimensional
Capacidade de alinhamento de vários-materiais
Ele foi projetado para fabricação micro/nano em vez de prototipagem geral.
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