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Forno de recozimento de mercúrioEste equipamento de deposição de feixe de íons é um sistema de deposição de filmes finos de alta{0}}precisão projetado para a preparação de fios metálicos e filmes finos de contato ôhmico na fabricação de dispositivos infravermelhos.Ver mais
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Forno de recozimento de alta temperatura SiCO Forno de Recozimento de Alta Temperatura SiC é um equipamento especializado de processamento térmico construído para a produção de dispositivos de energia de carboneto de silício (SiC). Ele é usado principalmente para realizar...Ver mais
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Forno de oxidação de alta temperatura SiCEste forno de oxidação de SiC-de alta temperatura é um dispositivo de processamento térmico especializado desenvolvido para a fabricação de semicondutores de carboneto de silício. Ele é usado principalmente para desenvolver camadas de...Ver mais
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Forno Epitaxia SiCNosso forno epitaxy de SiC é um equipamento especializado construído para o crescimento homoepitaxial de 4H-SiC, um material central em semicondutores de terceira-geração.Ver mais
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Forno vertical de processamento térmicoNosso equipamento de-deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD) é uma ferramenta essencial de fabricação dedicada à deposição de materiais epitaxiais de alta-qualidade. Ele foi projetado profissionalmente para a preparação de...Ver mais
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Forno vertical de oxidação e recozimentoNosso forno vertical de oxidação e recozimento é construído para processamento térmico confiável na produção de semicondutores. Ele lida com oxidação, recozimento e liga para wafers usados em circuitos integrados, dispositivos de...Ver mais
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Equipamento RTP semi{0}}automáticoEste equipamento RTP semi{0}automático é bastante prático, capaz de processar wafers de 8 a 12 polegadas. O equipamento RTP semi{4}}automático oferece controle preciso de temperatura e baixíssimo teor de oxigênio, tornando-o ideal para...Ver mais
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Equipamento RTP de oxidação e difusãoO equipamento RTP de oxidação e difusão se destaca como uma ferramenta térmica central para semicondutores, reunindo capacidades de oxidação, difusão e recozimento em uma única unidade. Ele foi projetado especificamente para processar...Ver mais
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Equipamento RTP de oxidação-de alta temperaturaO equipamento RTP de oxidação de alta-temperatura da nossa empresa é um equipamento térmico essencial na produção de semicondutores em-grande escala. Ele foi projetado especificamente para criar filmes de SiO₂ limpos e densos em...Ver mais
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Equipamento RTP de baixa-temperaturaEquipamento RTP-de baixa temperatura: oferece controle de temperatura excepcionalmente preciso de 250 graus a 500 graus, lidando com tratamento térmico de materiais como niobato de lítio e silício de maneira eficaz.Ver mais
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Equipamento RTP AutomáticoO equipamento RTP automático é compatível com wafers de 8-12 polegadas, com designs de cavidade única/dupla e projetado especificamente para produção em massa. Integrando robôs e outros componentes, ele consegue carregamento,...Ver mais
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Equipamento RTP de mesaO Equipamento Desktop RTP Adaptável a wafers de pequeno-tamanho, o equipamento apresenta design compacto e posicionamento flexível. O controle de temperatura cobre a temperatura ambiente de 800 graus (termopar) e de 500 graus a 1200...Ver mais
Como um dos fabricantes e fornecedores mais profissionais de equipamentos de processamento térmico na China, somos caracterizados por produtos de qualidade e bom preço. Tenha a certeza de comprar equipamentos de processamento térmico personalizados de nossa fábrica. Para cotação e lista de preços, entre em contato conosco agora.

