• Forno de recozimento de mercúrio
    Este equipamento de deposição de feixe de íons é um sistema de deposição de filmes finos de alta{0}}precisão projetado para a preparação de fios metálicos e filmes finos de contato ôhmico na fabricação de dispositivos infravermelhos.
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  • Forno de recozimento de alta temperatura SiC
    O Forno de Recozimento de Alta Temperatura SiC é um equipamento especializado de processamento térmico construído para a produção de dispositivos de energia de carboneto de silício (SiC). Ele é usado principalmente para realizar...
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  • Forno de oxidação de alta temperatura SiC
    Este forno de oxidação de SiC-de alta temperatura é um dispositivo de processamento térmico especializado desenvolvido para a fabricação de semicondutores de carboneto de silício. Ele é usado principalmente para desenvolver camadas de...
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  • Forno Epitaxia SiC
    Nosso forno epitaxy de SiC é um equipamento especializado construído para o crescimento homoepitaxial de 4H-SiC, um material central em semicondutores de terceira-geração.
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  • Forno vertical de processamento térmico
    Nosso equipamento de-deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD) é uma ferramenta essencial de fabricação dedicada à deposição de materiais epitaxiais de alta-qualidade. Ele foi projetado profissionalmente para a preparação de...
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  • Forno vertical de oxidação e recozimento
    Nosso forno vertical de oxidação e recozimento é construído para processamento térmico confiável na produção de semicondutores. Ele lida com oxidação, recozimento e liga para wafers usados ​​em circuitos integrados, dispositivos de...
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  • Equipamento RTP semi{0}}automático
    Este equipamento RTP semi{0}automático é bastante prático, capaz de processar wafers de 8 a 12 polegadas. O equipamento RTP semi{4}}automático oferece controle preciso de temperatura e baixíssimo teor de oxigênio, tornando-o ideal para...
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  • Equipamento RTP de oxidação e difusão
    O equipamento RTP de oxidação e difusão se destaca como uma ferramenta térmica central para semicondutores, reunindo capacidades de oxidação, difusão e recozimento em uma única unidade. Ele foi projetado especificamente para processar...
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  • Equipamento RTP de oxidação-de alta temperatura
    O equipamento RTP de oxidação de alta-temperatura da nossa empresa é um equipamento térmico essencial na produção de semicondutores em-grande escala. Ele foi projetado especificamente para criar filmes de SiO₂ limpos e densos em...
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  • Equipamento RTP de baixa-temperatura
    Equipamento RTP-de baixa temperatura: oferece controle de temperatura excepcionalmente preciso de 250 graus a 500 graus, lidando com tratamento térmico de materiais como niobato de lítio e silício de maneira eficaz.
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  • Equipamento RTP Automático
    O equipamento RTP automático é compatível com wafers de 8-12 polegadas, com designs de cavidade única/dupla e projetado especificamente para produção em massa. Integrando robôs e outros componentes, ele consegue carregamento,...
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  • Equipamento RTP de mesa
    O Equipamento Desktop RTP Adaptável a wafers de pequeno-tamanho, o equipamento apresenta design compacto e posicionamento flexível. O controle de temperatura cobre a temperatura ambiente de 800 graus (termopar) e de 500 graus a 1200...
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