• Sistema MOCVD Industrial
    As séries Nice{0}}Tech CV600/CV700 são dispositivos MOCVD de-produção em massa{4}}de alta tecnologia para crescimento epitaxial de semicondutores compostos, adotando tecnologia patenteada de rotação dupla-de satélite planetário para...
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  • Sistema MOCVD padrão
    O equipamento MOCVD da série-Tech MC150/MC200/MC300 adota o modelo de injeção de gás de chuveiro vertical-acoplado, com vantagens inerentes de uniformidade epitaxial por meio de bicos de gás de fonte escalonada de alta-densidade e...
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  • GaN-MOCVD
    GaN-MOCVD é um equipamento especializado de crescimento epitaxial projetado para a deposição de nitreto de gálio (GaN) de alta-qualidade e filmes finos semicondutores compostos relacionados.
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  • MOCVD
    Nosso equipamento de-deposição de vapor químico orgânico metálico (MOCVD) é uma ferramenta essencial de fabricação dedicada à deposição de materiais epitaxiais de alta-qualidade. Ele foi projetado profissionalmente para a preparação de...
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  • Sistema LPCVD Vertical
    O Vertical LPCVD TEOS/Poly/SiN é um sistema de deposição química de vapor de baixa-pressão para fabricação de semicondutores. Ele é usado para depositar filmes finos de poli, TEOS, SiN e HTO de alta{2} qualidade.
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  • Equipamento PECVD
    A Nice{0}}Tech lançou três modelos PECVD (Depomerits PE 100, PE 200 e PE 300) e, juntos, eles formam uma matriz de produtos que cobre todos os principais cenários: desde pesquisa de laboratório até pequenas execuções de{4}lotes, até a...
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  • Sistema ICP-CVD
    O sistema CVD-Tech' de 8-polegadas-ICP foi projetado para deposição de-filmes finos em wafers de 8-polegadas. Ele gera plasma de alta densidade por meio de acoplamento indutivo (ICP) e estabelece polarização por meio de acoplamento...
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  • Equipamento LPCVD
    LPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) é uma tecnologia de processo de semicondutores central. Sob condições de baixa-pressão, ele aquece compostos gasosos para desencadear reações, depositando filmes finos sólidos estáveis...
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