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Sistema MOCVD IndustrialAs séries Nice{0}}Tech CV600/CV700 são dispositivos MOCVD de-produção em massa{4}}de alta tecnologia para crescimento epitaxial de semicondutores compostos, adotando tecnologia patenteada de rotação dupla-de satélite planetário para...Ver mais
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Sistema MOCVD padrãoO equipamento MOCVD da série-Tech MC150/MC200/MC300 adota o modelo de injeção de gás de chuveiro vertical-acoplado, com vantagens inerentes de uniformidade epitaxial por meio de bicos de gás de fonte escalonada de alta-densidade e...Ver mais
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Sistema LPCVD VerticalO Vertical LPCVD TEOS/Poly/SiN é um sistema de deposição química de vapor de baixa-pressão para fabricação de semicondutores. Ele é usado para depositar filmes finos de poli, TEOS, SiN e HTO de alta{2} qualidade.Ver mais
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Equipamento PECVDA Nice{0}}Tech lançou três modelos PECVD (Depomerits PE 100, PE 200 e PE 300) e, juntos, eles formam uma matriz de produtos que cobre todos os principais cenários: desde pesquisa de laboratório até pequenas execuções de{4}lotes, até a...Ver mais
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Sistema ICP-CVDO sistema CVD-Tech' de 8-polegadas-ICP foi projetado para deposição de-filmes finos em wafers de 8-polegadas. Ele gera plasma de alta densidade por meio de acoplamento indutivo (ICP) e estabelece polarização por meio de acoplamento...Ver mais
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Equipamento LPCVDLPCVD (Low Pressure Chemical Vapor Deposition) é uma tecnologia de processo de semicondutores central. Sob condições de baixa-pressão, ele aquece compostos gasosos para desencadear reações, depositando filmes finos sólidos estáveis...Ver mais
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