Visão geral do produto

Os três equipamentos de pulverização catódica Magnetron da nossa empresa, baseados na tecnologia PVD, depositam filmes metálicos, dielétricos e semicondutores de alta-qualidade, mas diferem no foco da aplicação.

Vejamos o modelo industrial de{{0}câmara única: ele foi projetado para produção em-grande escala, com meta de utilização destacada que mantém os custos sob controle. Ele lida perfeitamente com wafers de 8 polegadas, atendendo às demandas de produção industrial consistentes.

Depois, há a versão industrial com múltiplas-câmaras, que usa câmaras modulares e independentes (como aquecimento, pulverização catódica e muito mais) para automatizar todo o processo de revestimento.

É uma virada de jogo-para a produção-em massa de filmes complexos de múltiplas-camadas, reduzindo a intervenção manual. A máquina de notas-de pesquisa, por outro lado, foi projetada especificamente para universidades e instituições de pesquisa. Ele oferece configurações flexíveis-como pulverização catódica de vários-alvos-para acomodar pequenos-trabalhos de pesquisa e desenvolvimento em lotes, seja para materiais de carboneto de silício ou protótipos de chips quânticos. Em todos os três, mantemos nosso compromisso de “qualidade artesanal”, garantindo que eles atendam às diversas necessidades da indústria de semicondutores.

Para obter a melhor solução para você, entre em contato conosco.

Aplicativos

Cada um dos três equipamentos de pulverização catódica Magnetron da nossa empresa tem seu próprio nicho-juntos, cobrindo todas as necessidades da indústria de semicondutores.

Vejamos o modelo industrial de{{0}câmara única: trata-se de fabricação em-grande escala, como circuitos integrados. Para a preparação de filme fino de wafer de 8- polegadas, ele é rápido e estável, cabe diretamente nas linhas de produção CMOS/IGBT e atinge as metas de capacidade e rendimento sem problemas.

O industrial multi-câmara se destaca pela automação total e integração sólida. Aqueles filmes multi-complexos e complicados para dispositivos 5G e optoeletrônicos? Ele lida com eles facilmente, atendendo às rigorosas demandas de precisão da produção em massa.

Em seguida, o-modelo de notas de pesquisa-é feito sob medida para P&D universitário. Ele oferece suporte a testes de pequenos-lotes em novos materiais, como carboneto de silício, e atua como uma plataforma de verificação superflexível.

Vantagens

Nossos três equipamentos de pulverização catódica Magnetron trazem pontos fortes específicos para a mesa, adaptados para cenários de aplicação distintos:

1. Modelo industrial de{{1}câmara única:

Ele tem grande pontuação com alta utilização alvo-reduzindo diretamente os custos operacionais. Ao processar wafers de 8{3}} polegadas, ele oferece desempenho sólido; a uniformidade do filme permanece dentro de ±3%, atingindo facilmente os requisitos de rendimento industrial. Além disso, sua estrutura simples facilita a manutenção.

2. Modelo Industrial Multi{1}}câmara:

As câmaras modulares automatizadas são seu trunfo, aumentando significativamente a eficiência da produção. Ele também conta com controle avançado de partículas, o que garante-pureza de filme de alto nível-perfeita para criar filmes multi-camadas usados em dispositivos 5G e optoeletrônicos. Além disso, a sua forte capacidade de integração permite-lhe adaptar-se perfeitamente a uma vasta gama de materiais.

3. Modelo de notas-de pesquisa:

Projetado com pesquisa e desenvolvimento em mente, ele oferece configurações flexíveis, como pulverização catódica de vários-alvos, para atender às novas necessidades de desenvolvimento de materiais. A precisão de nível-micrômetro oferece suporte confiável para verificação de processos, e seu design de processamento em pequenos-lotes ajuda a reduzir despesas de testes de pesquisa e desenvolvimento-ideal para exploração em laboratório.

Parâmetros

Item	Modelo industrial-de câmara única	Modelo Industrial Multi-câmara	Modelo de notas-de pesquisa
Tamanho de wafer aplicável	8 polegadas e abaixo	6 polegadas/8 polegadas	8 polegadas e abaixo
Vácuo final	8x10-5Pa	2x10-5 Pa	-
Uniformidade do filme	Menor ou igual a ±3%	Menor ou igual a ±3%	±3%(alvo de 4 polegadas, wafer de 8 polegadas)
Controle de temperatura do estágio de substrato	Grau RT-650 (ou resfriamento)	-	Grau RT-600 (aquecimento ou resfriamento)
Velocidade de rotação do estágio de substrato	-	-	5-20 RPM
Método de pulverização catódica	Sputtering-de alvo único	-	Alvo único-/multi{1}}alvo sequencial/co{2}}sputtering
Fonte de energia	DC/RF/MF opcional	-	DC/RF/MF opcional
Configurações principais	Câmara de processo única; Menor ou igual a 4 armas alvo	Menor ou igual a 5 câmaras de processo (aquecimento, resfriamento, pulverização catódica, etc.)	Sputtering de vários-alvos: pré-câmara de vácuo (opcional); módulo de limpeza de amostra
Materiais Aplicáveis	Silício, compostos, cerâmica, etc.	Silício, compostos, etc.	Metais (Al, Au, Cu), dielétricos (SiO2, TaN), semicondutores

Perguntas frequentes

Como escolher entre os três modelos?

Para produção em massa de wafers de 8-polegadas (por exemplo, CMOS/IGBT), escolha o modelo industrial de-cavidade única; para filmes multicamadas complexos em 5G/optoeletrônica, escolha o modelo industrial multicavidades; para pesquisa e desenvolvimento de novos materiais em universidades (por exemplo, carboneto de silício), escolha o modelo de pesquisa.

Ele é compatível com revestimento de material que não seja à base de-silício-?

Sim, suporta tudo, abrangendo cerâmicas, semicondutores compostos, metais (Al/Au), dielétricos (SiO₂), etc.

O tamanho do wafer pode ser expandido?

O padrão é 8 polegadas ou menos (6-8 polegadas para o modelo de múltiplas-cavidades). A expansão em pequena escala pode ser personalizada antecipadamente, mas a viabilidade do processo precisa ser avaliada.

Quais são as condições de teste para uniformidade da espessura do filme menor ou igual a ±3%?

Com base em wafers de 8 polegadas (wafer alvo de 4 polegadas + 8-polegadas para o modelo de pesquisa), testes padrão de camada de filme metálico/dielétrico. A otimização é possível para diferentes espessuras de materiais/filmes.

É fornecido treinamento de instalação?

Fornecemos-instalação e comissionamento no local, além de treinamento de operação/manutenção para garantir que a equipe possa começar a trabalhar rapidamente.

O equipamento pode ser atualizado posteriormente?

Modelos de múltiplas-cavidades e de pesquisa podem ser atualizados com armas de alvo/câmaras de pré{1}}vácuo; modelos de cavidade-única têm potencial de atualização limitado, por isso recomendamos definir claramente as necessidades-de longo prazo desde o início.

Quanto tempo dura o ciclo de entrega? Pode ser agilizado?

Modelos de-cavidade/pesquisa única: 8-12 semanas; modelos multicavidades: 12-16 semanas; a entrega rápida é negociável e depende da programação da linha de produção.

Há algum desconto nos custos de manutenção-pós-produção?

Principalmente para materiais alvo e consumíveis. Os consumíveis são oferecidos com desconto maior ou igual a 10% por 5 anos após o período de garantia. Também fornecemos orientação de manutenção para reduzir custos.

Tag: equipamento de pulverização catódica de magnetron, fabricantes e fornecedores de equipamentos de pulverização catódica de magnetron na China