Visão geral do produto
O Batch Wafer Cleaner-incluindo os modelos de 12-polegadas e os modelos BC de 8-polegadas-foi desenvolvido para precisão na fabricação de semicondutores e processamento de wafer de silício, sendo especializado em gravação e limpeza úmida. O que o diferencia? Flexibilidade de formato que funciona para wafers de 12-polegadas e 8{10}}polegadas, além de opções de manuseio configuráveis (sem cassete ou tipo cassete) para atender praticamente qualquer configuração de produção, desde fábricas de alto volume de 300 mm até linhas legadas de 200 mm.
Internamente, ele está repleto de recursos importantes para resultados consistentes: gerenciamento avançado de produtos químicos (com suporte CCSS/LCSS), controle de processo automatizado para dosagem, temperatura e vazão, além de comunicação SECS/GEM padrão-do setor. Mas não nos limitamos ao desempenho-a segurança e a eficiência também eram as principais prioridades. Você terá detecção-incorporada de vazamentos e proteção contra superaquecimento para sua tranquilidade, além de recursos de recuperação de produtos químicos e classificação de resíduos para manter as operações funcionando sem problemas. Esteja você gravando, limpando ou enxaguando, esse sistema oferece resultados repetíveis com os quais você pode contar-sem suposições.
Vantagens
Flexibilidade de formato e manuseio
- Modelo de 12 polegadas:Design-sem cassete (reduz os riscos de contaminação para wafers de 300 mm de alta-pureza).
- Modelo de 8 polegadas:Manuseio duplo sem cassete/tipo{0}}cassete + compatibilidade SMIF POD/FOUP (adapta-se a fluxos de trabalho legados/modernos de 200 mm).
Controle de Processo de Precisão
- Recursos padronizados:Dosagem automática, sangramento e alimentação e regulação-em tempo real de temperatura, concentração, vazão e pressão (garante uniformidade-de lote-de lote).
- Secagem avançada:Secagem Marangoni/LPD (evita manchas/resíduos de água em superfícies sensíveis de wafer).
Custo e Eficiência Operacional
Recuperação química exclusiva do BC3100 (reduz o consumo e desperdício de produtos químicos).
Proteção contra superaquecimento de lote + sensores de vazamento (minimiza tempo de inatividade e perda de material).
Integração e conformidade de fábrica
Suporte completo ao protocolo SECS/GEM (permite conectividade MES para fluxos de trabalho de fábricas inteligentes).
- Modelo de 8 polegadas:Drenagem separada (simplifica a classificação de resíduos perigosos e a conformidade regulatória).
Aplicativos
Processos de fabricação de IC
- Limpeza RCA
- faixa molhada de relações públicas
- Gravura úmida de camada dielétrica
- Gravura úmida de camada metálica
Processamento de wafer de silício
- Gravura alcalina
-Limpeza pós{1}}polimento
- Pré-limpeza
- Enxágue final
Modelar-casos de uso específicos
Modelo de - 12-polegadas: feito para produção de alto-volume de 300 mm. Pense em grandes fábricas de lógica e chips de memória funcionando a toda velocidade.
Modelo de - 8- polegadas: Ideal para linhas de wafer de 200 mm. Ótimo para semicondutores automotivos e microeletrônicos legados-aqueles que alimentam sistemas essenciais.
Parâmetros
|
Parâmetro |
Modelo de 12 polegadas |
Modelo BC de 8 polegadas |
|
Tamanho da bolacha |
12 polegadas (300 mm) |
8 polegadas (200 mm) |
|
Tipo de ferramenta |
Cassete-menos |
Tipo cassete ou cassete |
|
Capacidade/passo do wafer |
N/A |
50 wafers (25 wafers/cassete x2)/passo de 10 mm |
|
Operadoras Suportadas |
N/A |
SMIF POD/FOUP |
|
Suporte ao Fornecimento de Produtos Químicos |
CCSS, LCSS |
CCSS,LCSS |
|
Tecnologia de Secagem |
Marangoni seco ou LPD |
Marangoni seco, LPD seco |
|
Gestão Química |
Dosagem automática, sangramento e alimentação; |
Dosagem automática, sangramento e alimentação; |
|
Recursos de segurança |
Proteção contra superaquecimento do banho; sensores de vazamento (nível-da unidade) |
Proteção contra superaquecimento do banho; detecção de vazamento; separar |
|
Recuperação Química |
Suportado |
Não especificado |
|
Protocolo de comunicação |
Suporte completo SECS/GEM |
Suporte completo SECS/GEM |
|
Transmissão de Cassete |
Não especificado |
Suportado |
Perguntas frequentes
P: Quais tamanhos de wafer a Série BC suporta?
R: O BC3100 lida com wafers de 12 polegadas (300 mm); o modelo BC de 8 polegadas suporta wafers de 8 polegadas (200 mm).
P: A Série BC pode funcionar com cassetes?
R: O BC3100 usa um design sem-cassete; o modelo de 8- polegadas suporta manuseio sem cassete e tipo cassete.
P: Quais processos principais ele executa?
R: Ele lida com limpeza de RCA, tira PR, gravação dielétrica/metálica e limpeza pós{0}}polimento para semicondutores/wafers.
P: Suporta integração de fábrica?
R: Sim,-ambos os modelos são totalmente compatíveis com o protocolo de comunicação SECS/GEM para conectividade MES.
P: Quais recursos de segurança ele possui?
R: Os recursos padrão incluem proteção contra superaquecimento do banho e detecção de vazamentos; o modelo de 8 polegadas adiciona drenagem separada de resíduos.
Tag: limpador de wafer em lote, fabricantes e fornecedores de limpador de wafer em lote na China

