Visão geral do produto
O equipamento RTP de oxidação de alta-temperatura da nossa empresa é um equipamento térmico essencial na produção de semicondutores em-grande escala. Ele foi projetado especificamente para criar filmes de SiO₂ limpos e densos em substratos de silício, adequados para a fabricação de dispositivos CMOS, IGBT e MEMS.
O equipamento RTP de oxidação de alta-temperatura modelo de 12-polegadas é geralmente usado para produção em massa avançada de wafers de grande porte, mas o modelo de 8 polegadas é compatível com uma variedade de métodos de oxidação, atendendo totalmente às principais necessidades de produção em massa. Esta é a distinção fundamental entre os dois equipamentos.
Para encontrar a máquina certa para suas necessidades, entre em contato conosco.
Indústrias de aplicação
Indústria de fabricação de semicondutores (circuitos integrados, dispositivos discretos, dispositivos optoeletrônicos, etc.)
Indústria de eletrônicos de nova energia (relacionado a semicondutores de potência)
Indústria-de fabricação de componentes eletrônicos de alta tecnologia
Campo de pesquisa de semicondutores e produção piloto (universidades, instituições de pesquisa)
Produtos de aplicação
- Dispositivos semicondutores principais: chips CMOS, dispositivos de potência IGBT, sistemas microeletromecânicos MEMS, dispositivos RF, etc.
- Produtos-relacionados ao usuário final: componentes principais para equipamentos de comunicação 5G, componentes eletrônicos automotivos, chips eletrônicos de consumo, chips de controle industrial, etc.
- Dispositivos de pesquisa: amostras de verificação de processos de novos materiais semicondutores, protótipos-de pesquisa e desenvolvimento de dispositivos de última geração, etc.
Vantagens
Controle preciso de temperatura (±0,5 graus), processo estável;
01
Câmara limpa, qualidade de membrana confiável;
02
Produção em lote{0}}de alta eficiência, adaptação flexível;
03
Adaptação flexível de tamanho/processo para cobrir diferentes necessidades de produção em massa.
04
Parâmetros
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Item |
Modelo de 12 polegadas |
Modelos de 8 polegadas |
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tamanho da bolacha |
12 polegadas |
8 polegadas |
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Carga do tablet |
Maior ou igual a 125 peças/barco |
Adaptado às necessidades de produção em massa de 8 polegadas |
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Faixa de temperatura |
- |
600-1150 graus |
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Precisão do controle de temperatura |
±0,5 graus |
Menor ou igual a ±0,5 grau |
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Comprimento da zona de temperatura constante |
Maior ou igual a 850 mm |
300-860mm |
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Uniformidade da espessura do filme |
WIW/WTW/RTR Menor ou igual a ±2% |
WIW Menor ou igual a ±2%; WTW Menor ou igual a ±2% |
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Processos aplicáveis |
Preparação de filme de óxido em substrato de silício |
Oxigênio seco (Si), oxigênio úmido (evaporação rápida/banho-maria/ignição de H2O) |
Perguntas frequentes
Qual é o objetivo principal deste equipamento RTP de oxidação de alta-temperatura?
Para criar um filme de SiO₂ limpo e denso em substratos de silício, adequado para processar estruturas-chave em dispositivos semicondutores.
Quais são as principais diferenças entre os modelos de 12 e 8 polegadas?
O modelo de 12-polegadas é principalmente para produção em massa avançada de wafers de grande porte, enquanto o modelo de 8 polegadas é compatível com vários processos de oxidação, cobrindo as principais necessidades de produção em massa.
Quais são a precisão e o alcance do controle de temperatura?
O controle de temperatura é preciso de ±0,5 graus; o modelo de 8 polegadas tem uma faixa de temperatura de 600-1150 graus, atendendo às necessidades dos principais processos de oxidação.
Qual é a capacidade de processamento-em lote único?
O modelo de 12- polegadas pode conter mais de 125 wafers por lote, enquanto o modelo de 8 polegadas é adequado para produção em massa, com eficiência acompanhando as demandas em grande escala.
Quais dispositivos semicondutores são adequados?
CMOS, IGBT, MEMS, etc., podem ser usados, servindo como camadas de isolamento, camadas de buffer e outras estruturas principais.
A limpeza da câmara é garantida?
Materiais profissionais e design estrutural garantem a pureza da preparação do filme, livre de impurezas.
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